최근 중국지적재산권국이 발표한 2021년도 보고에 보여지는 데이터는 다음과 같다. 

 

01 전리 출원

- 2021년 중국 발명 전리 출원은 158만 6천 건으로 전년 대비 5.9% 증가 

- 2021년 중국 실용신안 전리 출원은 285만 2천 건으로 전년 대비 2.5% 감소 

- 2021년 중국 디자인 전리 출원은 80만 6천 건으로 전년 대비 4.6% 증가

 

02 전리 심사 

- 2021년 발명 전리 심사 126만 6천 건을 종결 

- 2021년 전리 우선 심사 7만 7천 건을 접수하였고, 그중 발명 전리 우선 심사는 7만 4천 건으로 전년 대비 31.5% 증가

 

03 전리 등록 

- 2021년 발명 전리 등록은 69만 6천 건으로 전년 대비 31.3% 증가 

- 2021년 실용신안 전리 등록은 312만 건으로 전년 대비 31.2% 증가 

- 2021년 디자인 전리 등록은 78만 6천 건으로 전년 대비 7.3% 증가

- 2021년 중국 발명 전리 등록율은 55%

 

04 유효 발명 전리 보유량 

2021년말까지, 등록되어 유효하게 유지되고 있는 발명 전리 건수는 359만 7천 건으로 전년 대비 17.6% 증가

 

05 PCT 국제전리출원 

- 2021년 PCT 경로를 통한 국제전리출원은 7만 3천 건으로 전년 대비 1.5% 증가 

- 2021년 중국 국내단계 PCT 국제전리출원은 10만 7천 건으로 전년 대비 6.3% 증가

 

06 전리 복심과 무효 

- 2021년 전리 복심 청구는 7만 6천 건으로 전년 대비 39.2% 증가 

- 전리 복심 청구는 5만 4천 건이 종결되었고 전년 대비 12.4% 증가 

- 전리 복심 청구의 종결 주기는 평균 16.4개월 - 발명 전리 복심 사건에서 취하 기각이 47.2%이고, 기각 유지와 기타 방법으로의 종결이 52.8%

 

- 2021년 전리 무효심판 청구는 7,628건 접수되었고 전년 대비 23.5% 증가 

- 전리 무효심판 청구는 7,065건이 종결되었고 전년 대비 1.1% 감소 

- 전리 무효심판 청구의 종결 주기는 평균 5.8개월

 

- 심결된 발명 전리 무효안 중 전부 무효 24.7%, 부분 무효 15%, 전리권 유지 60.4% 

- 심결된 실용신안 전리 무효안 중 전부 무효 42%, 부분 무효 17.8%, 전리권 유지 40.2% 

- 심결된 디자인 전리 무효안 중 전부 무효 49.9%, 부분 무효가 0.9%, 전리권 유지 49.1%