중국에서 완성되거나 또는 부분적으로 완성된 모든 발명은 반드시 중국지적재산국의 비밀유지 심사 허가를 받아야 해외에서 전리 출원을 할 수 있다. 그렇지 않을 경우, 중국 전리법 제20조 제1항（개정전 전리법）을 위반하게 되며 해당 중국 전리를 무효로 한다.

 

그러나 실제상 전리법 제20조 제1항에 의하여 중국 전리를 무효로 한 승소사건은 없으며, 그 원인은 청구인이 발명이 완성된 국가를 증명하기 어려웠기 때문이고, 또한 예전에는 해외 전리 출원이 많지 않았기 때문이다.

 

흥미로운것은, 최근 중국지적재산국 복심위원회는 최초로 “비밀유지 심사 허가를 받지 않았다”는 사유로 전리 무효심판 심결(제55586호)을 내려 전리 무효를 선고하였다. 2022년 5월 9일에 내린 이 심결은 중국지적재산국 복심위원회가 발명이 어느 국가에서 완성되었는지를 증명하는 방법을 명확히 보여주었다.

 

01 전리권자의 주소 

중국지적재산국 복심위원회는 전리권자의 전리문헌과 공개된 명세서에 근거하여 본 발명의 연구개발이 중국에서 완성되었을 가능성이 있고 전리권자가 해외에서 연구개발 능력을 가지고 있다는 반증이 없기 때문에 이 발명은 중국에서 완성되었을 가능성이 높다고 판단했다.

 

02 발명자의 국적

1) 본 중국 전리는 4명의 발명자가 있고, 그중 3명은 해외에서 영주권이 없는 중국 공민이며 발명자 중 일부는 전리권자의 회사에서 근무하는 동안 해외에 다녀온 적도 없다. 따라서, 중국지적재산국 복심위원회는 반증이 없기에 본 발명은 중국에서 완성되었거나, 적어도 부분적으로 중국에서 완성되었을 가능성이 높다고 판단했다.

 

2) 전리권자는 본 발명의 중국 발명자 중 한 명이 2016년 미국에 체류하는 동안 주로 완성된것 이라고 주장했다. 그러나 해당 발명자의 여권 기록에 따르면, 해당 발명자는 미국에서 임시 출원 제출일 이전에 2016년 11월 13일부터 11월 24일까지 단 10일 동안 미국에 체류한 것으로 보였다. 중국지적재산국 복심위원회는 다른 발명자들의 기여는 고사하고 10일만에 완전한 기술 아이디어와 해결 방법을 완성하는 것은 큰 의미가 없다고 판단했다.

 

상기 관점에서 볼 때, 중국지적재산국 복심위원회는 전리권자의 주소와 발명자의 국적이 발명이 완성된 국가를 나타내는 두 가지 중요한 기준이라고 명확히 밝혔다. 따라서, 만약 청구인이 제20조 제1항에 따라 중국 전리를 무효로 하고 싶다면, 청구인은 이 두 가지 기준을 중심으로 청구서를 작성해야 한다.

 

만약 전리권자가 위의 두 가지 기준 중 하나를 반박할 수 있는 충분한 반증을 제시하지 못한다면, 판결은 청구인에게 더 유리할 수 있다.

 

그러나, 만약 전리권자가 해외에서 연구개발 능력이 있고 중국 발명자가 해외에서 장기간 체류하였다는 것을 충분히 증명할 수 있다면 중국지적재산국 복심위원회는 청구인을 지지하기 어렵다는 것을 볼 수 있다.

 

점차 더욱 많은 중국 기업과 발명자가 해외에서 전리를 출원함에 따라, 중국지적재산국으로부터 비밀유지 심사 허가를 받는 것이 필요하고, 이는 또 전에 없이 중요하다.

 

* 2021년 당소에서 발표한 중국지적재산국에 비밀유지 심사 허가 등록 여부 관련 문장은 하기 링크에서 참조하시기 바랍니다. 

http://foundin.cn/en/bbs/board.php?bo_table=ip_trends_en&wr_id=24&page=3