1. 2020년 중국 전리데이터와 통계 

 

중국 국가지적재산권관리국은 지난 2020년1 월 22 일, 1 분기 정기 기자회견을 통해 중국 2020년 전리 통계를 발표하였습니다. 해당 통계에 따르면 2020년 전리데이터는 목표치를 달성하였으며, 이는 지적재산권 발전이 새로운 단계에 진입하였음을 의미한다고 하였습니다.

 

(1) 통계데이터 

 

중국은 2020년 53만 건의 특허권을 부여하였으며, 2020년 말 기준 중국 내 유효 특허건수는 305.8만 건, 그중 국내 특허건수 (홍콩, 마카오, 대만 제외)는 221.3만 건, 인구 만명당 특허 보유량은 15.8건에 도달했습니다. 

 

2020년 총 237.7만 건의 실용신안 특허권한을 부여하였으며, 2020년 말 기준 유효 실용 신안권 건수는 694.8만 건입니다.  2020년 총 73.2만 건의 디자인권을 부여하였으며, 2020년 말 기준 유효 디자인권 건수는 218.7 만 건입니다. 

 

2020년 관리국은 7.2만 건의 PCT 국제 특허출원을 수리하였으며 그중 국내 특허는 6.7만 건이였습니다. 2020년 관리국은 5.47만 건의 재심싞청을 수리하였으며 4.8만 건에 대해 심사 종결하였고 이는 전년 대비 28.9 % 증가했습니다. 그 외, 6,200 건의 무효심판청구가 수리되었고 7,100 건이 심리 종결되었으며, 이는 전년 대비 34.1 % 증가했습니다. 

 

 

 

 （2）중국 내 한국 전리 기술 현황 

 

2020년 중국 내 9,311 건의 한국 전리가 등록되었고 중국 내 총 전리 등록건수의 2 %를 차지하여 전년 대비 소폭 감소했습니다. 

 

 

도 1— 중국 내 한국 기업 전리 보유량TOP 20(특허권자에 따른 통계)  

 

중국 내 가장 많은 전리를 보유한 한국 기업은 삼성 전자 (주), 현대 자동차 (주), LG 전자 (주), LG 화학 (주),  LG 디스플레이 (주), SK 하이닉스(주), 삼성 디스플레이 (주), 삼성전기주식회사, LG 이노텍 (주) 등으로 주로 한국 재단에 가입한 전자 및 자동차 기업입니다.  

 

중국 내 한국 전리의 기술종류에는 반도체 장치, 데이터 처리, 영상통신, 무선통신, 디지털 정보 전송, 배터리, 광학소자, 시스템 또는 기기, 정적 메모리 장치, 디스플레이 제어 장치 또는 회로, 장치 또는 빛, 고분자 화합물을 제어하는 장치 등이 있습니다. 상기 각 종류에 속하는 전리건수는 모두 200건 이상이며 그 중 반도체 장치에 대핚 전리건수는 1,000 건을 초과하였습니다. 또핚 점유율이 10 % 이상인 기술종류에는 정적 메모리 장치, 엔진 용 사이클 작동 밸브, 면도 또는 매니큐어 장비 등이 포함됩니다. 그중 중국 내 한국 정적 메모리 전리건수는 311 건으로 해당 종류의 중국 내 전리건수의 19 %를 차지하고 있으며, 이는 한국이 정보 메모리 기술면에서 상대적으로 독점적인 지위를 차지하고 있음을 알 수 있습니다. 

 

2020년 중국 내 가장 많은 한국 전리 기술분야에는 이미지 통신, 광학 및 촬영, 반도체 소자, 컴퓨터 인터페이스, 젂기 소자 및 구조 부품, 일반 차량, 무선통신 네트워크, 반도체 회로 소자 및 집적 회로입니다. 해당 기술분야의 전리건수는 50건을 초과합니다.

 

산국의 우세한 전리 기술분야에는 정보 저장, 반도체 회로 소재 및 집적 회로, 반도체 소재, 컴퓨터 인터페이스, 영상 통신, 디스플레이 제품 및 음향, 배터리, 광학 및 촬영 등 분야이며 해당 분야의 전리는 중국 내 전리건수의 5 ~1 5 %를 차지합니다.

 

상대적으로 취약한 한국의 전리 기술분야는 컴퓨터 모델 아키텍처, 컴퓨터 응용 및 소프트웨어 공학, 농업 및 식품, 건설 및 광업, 재료 테스트, 포장, 저장 및 욲송, 데이터 인식, 철도 선박 및 항공기 등 입니다. 해당 분야의 전리는 중국 내 전리건수의 0.6 % 미만을 차지합니다. 한국은 대표적인 기술 혁신국으로 주로 반도체, 광학, 디스플레이 등 신흥기술 방면에 전리가 분포하고 있지만, 인공 지능, 컴퓨터 소프트웨어, 농업 기술방면은 상대적으로 취약한 것을 알 수 있습니다.  

 

2. 현황 및 동향

 

(1) 데이터로 부터 보는 주요 특징 

 

첫째, 지적재산권 심사의 질과 효율성이 더욱 향상되었습니다. 

 

2020년 지적재산권 심사의 질과 효율성은 지속적으로 추진되었습니다. 고가치 특허의 심사기간은 14개월로 단축되었으며, 발명 특허 심사기간은 평균 20 개월로 단축되었습니다.

 

둘째, 국내 특허의 구조가 지속적으로 최적화되고 질적 제고되었습니다. 2020년 말 기준, 유지기한이 10 년을 초과한 국내 유효 특허건수는 28.1만 건으로 총 특허건수의 12.3 %를 차지하여 전년 대비 1% 증가하였습니다. 기업 혁신 주체의 지위는 더욱 공고해졌으며, 유효 특허를 보유한 국내 기업은 24.6만 개로 전년 대비 3.3만 개 증가하였습니다. 그중, 하이테크 기업은10.5만 개로 92.2만 건의 유효 특허를 보유하고 있으며, 이는 국내 기업이 보유핚 유효 특허건수의 약 60 %를 차지합니다.

 

셋째, 기업의 해외 지적재산권 배치능력이 한층 강화되었습니다. 2020년 국내 출원인이 제출한 PCT 국제 특허출원은 젂년 대비 17.9 % 증가했으며, 국내 출원인으로부터 접수 된 마드리드 상표 국제등록출원은 젂년 대비 16.1 % 증가했습니다. 관렦 통계에 따르면, 2020년 1 월부터 11 월까지 국내의 지적재산권 사용료 수출액은 74.7억 달러로 전년 대비 24.2 % 증가했습니다. 이는 중국 기업의 해외 지적재산권 배치능력이 더욱 강화되었음을 보여줍니다. 

 

넷째, 일대일로(一带一路) 연선국가들의 중국 내 발전에 대한 확신이 더욱 확고해졌습니다. 2020년 '일대일로' 연선국가들의 중국 내 전리 배치능력이 강화된 가운데 중국 내 특허 출원건수는 2.3 만건으로 전년 대비 3.9 % 증가했으며, 이는 기타 외국의 중국 내 증가속도보다 높습니다. 그중 싱가포르는 전년 대비 21.0 % 증가하고 한국은 전년 대비 4.4 % 증가했습니다. 

 

(2) 전리 정책의 새로운 동향 고시

 

1 월 27 일, 국가 지적재산권관리국은 "전리출원 행위를 더욱 엄격하게 규제한 것에 관한 고시"를 발표하여 6 개의 "비정상" 전리출원 행위를 재정의하고 "비정상" 전리출원 행위에 대해 새로운 조치를 제정했습니다. 

 

“비정상” 전리출원 행위는 다음과 같습니다. 

 

1. "전리출원 행위 규제에 관한 여러 규정"(국가 지적재산권관리국 제75호 국령) 제3조에 규정된 6가지 경우에 속하는 행위. 

2. 단위 또는 개인이 고의로 관련 전리출원을 분산하여 제출하는 행위. 

3. 단위 또는 개인이 연구개발 능력과 명백히 일치하지 않는 전리출원을 제출하는 행위.

4. 단위 또는 개인이 비정상적으로 전리출원을 재판매하는 행위. 

5. 기업 또는 개인이 제출한 전리출원을 복잡한 구조로 단순한 기능을 구현하고, 통상적인 또는 단순한 기능을 사용하여 조합하거나 스택하는 기술 등 기술 개선 상리에 현저히 부합되지 않는 행위. 

6. 기타 민법에서 규정핚 성실신용의 원칙에 위반되거나 전리법 관련 규정에 어긋나거나 전리출원 관리의 질서를 방해하는 행위. 위의 "단위 및 개인"에는 동일 자연인, 법인, 기타 조직 및 동일 실제 관리자가 포함됩니다. 

 

"비정상" 전리출원에 대한 조치  

1. 전리 비용을 감납하지 않으며 이미 감납한 금액은 추가로 납부해야 합니다. 상황이 심각한 경우 본 연도부터 5 년간 연차료를 감납하지 않습니다. 

2. 국가 지적재산권관리국 정부 홈페이지 및 중국 지적재산권 일보에 통보합니다. 

3. 전리 출원건수 통계에서 해당 출원건수를 제외합니다. 

4. 국가 지적재산권 시범 및 우수기업, 지적재산권 보호센터의 등록기업 자격 및 중국 전리상 신청, 응모 또는 수상 자격을 취소합니다. 

5. 지원하거나 장려하지 않습니다. 이미 자금을 지원받았거나 장려받은 것은 전부 또는 부분적으로 반환해야하며, 상황이 심각한 경우 본 연도부터 5 년간 지원금 또는 장려금을 지급하지 않습니다. 재정 지원 및 장려를 받은 혐의가 인정되면 법에 따라 해당 기관에 형사책임을 물을 수 있도록 관련 기관에 이송합니다. 

6. 각급 지방 지적재산권 부서는 해당 비정상출원을 대리하여 전리 업무 질서를 심각하게 교란한 전리대리기관에 대해 상황에 근거하여 법에 따라 조사처리 강도를 높이며 전국변리사협회는 해당 출원과 관련된 대리기관 및 대리인에 업종자율조치를 취합니다.  

 

해당 정책의 목적은 중국을 지적재산권 수입 대국에서 창조 대국으로 전환을 추진하려는데 있으며, 양적 확대보다 질적 향상을 추구하고 고품질 발전요구를 엄격히 실행하여 전리출원의 행위를 더욱 규범화하며 전리출원의 질을 높여 혁신을 목적으로 하지 않는 비정상 전리출원을 제거하려는 데 있습니다.  

 

출처: 국가지적재산권관리국 홈페이지, 陈立新과학 네트워크 블로그